中芯国际新专利:颠覆半导体清洗技术的秘密武器!
2025年3月19日,金融界发布重磅消息:中芯国际在半导体技术领域再下一城!国家知识产权局的多个方面数据显示,中芯国际集成电路制造(上海)有限公司及其北京分公司成功申请到一项名为“半导体结构的清理洗涤方法”的专利,授权公告号为CN114649191B,申请日期追溯至2020年12月。这项新技术的潜在价值,不仅仅可以提升芯片制作的完整过程中的清洗效率,还有可能明显降低生产成本。
回顾中芯国际的奋斗历程,成立于2000年的此公司,如今已成为中国领先的半导体制造企业。总部在上海,注册资本高达244,000万美元。通过综合数据分析发现,中芯国际还具有强大的投资布局和市场参与能力,涉及的招投标项目更是高达120次,拥有5000条专利信息和147条商标记录,显示出其在行业中的竞争实力。
随着全球半导体行业竞争日趋激烈,这项新专利标志着中芯国际在技术创新方面的持续努力,更体现了其在国际舞台上的发声与破局潜力。未来,中芯国际将如何运用这项清理洗涤方法,提高个人的市场地位并带动整个行业的进步,可以让我们持续关注。返回搜狐,查看更加多
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